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投入、良率、交付“三连升”，英特尔提速AI芯片制造

投入、良率、交付“三连升”，英特尔提速AI芯片制造

随着生成式AI向智能体AI、物理AI演进，CPU在异构AI系统中的角色愈发关键，带动数据中心CPU需求持续走高。与此同时，被称为“AI工厂”的大规模智能算力集群，对先进制程芯片的消耗仍呈指数级增长。在头部晶圆厂产能趋紧、交付周期拉长的背景下，行业对多元化先进产能的呼声日益强烈，英特尔代... （来源：技术文章频道）

英特尔 AI芯片 EUV 2026-7-22 11:18

没有EUV也能造5nm！国产二维半导体产线投产：绕开ASML换道超车

没有EUV也能造5nm！国产二维半导体产线投产：绕开ASML换道超车

国产芯片企业原集微近日宣布建成全球首条8英寸二维半导体工程化示范工艺线，并发布500nm工艺PDK。该公司计划2029年实现不依赖EUV的等效5nm制程。 二维半导体材料具备原子级厚度特性，无需复杂晶体管架构即可实现尺寸微缩。其超低漏电特性可显著降低芯片功耗，结合3D堆叠还能提升存储容量和性能。 ... （来源：新闻频道）

5nmEUVASML 2026-7-17 13:07

苏州极紫外半导体有限公司推出独创三束等离子体耦合 DPP－EUV 光源样机 差异化路线破解国产光刻光源卡脖子难题

苏州极紫外半导体有限公司推出独创三束等离子体耦合 DPP－EUV 光源样机 差异化路线破解国产光刻光源卡脖子难题

近日，苏州极紫外半导体有限公司正式发布自研三束等离子体耦合 DPP 极紫外（13.5nm EUV）光源工程样机。该技术由哈工大资深 EUV 光源专家深耕 二十余年攻关落地，独创三束耦合发光架构，既绕开海外 LPP 光源海量专利壁垒，又彻底解决传统单束 DPP 功率低、碎屑污染、稳定性差等工业化短板，为国内高端光... （来源：技术文章频道）

极紫外半导体 DPP-EUV 光源样机EUV 光源 2026-7-16 16:03

ASML上调全年目标：EUV狂卖65台，营收上看450亿欧元！

ASML上调全年目标：EUV狂卖65台，营收上看450亿欧元！

2026年7月15日，光刻机大厂ASML发布了2026年第二季度财报。受益于人工智能（AI）相关设备投资的持续强劲需求，ASML二季度业绩全面超出市场预期，同时显著上调了2026年全年业绩指引，预计营收将达430至450亿欧元。 Q2营收同比增长21.2% 2026年第二季度，ASML实现净销售额93.26亿欧元，同比增长21.... （来源：新闻频道）

ASMLEUV 2026-7-15 17:02

全球首家！英特尔开始用High NA EUV量产芯片

全球首家！英特尔开始用High NA EUV量产芯片

7月15日，ASML发布的新闻稿宣布，英特尔Foundry正在Intel 18A工艺节点上采用ASML High NA EUV技术生产其的部分英特尔Core Ultra 3系列处理器。英特尔Foundry成为了业界首家采用High NA EUV发布大量逻辑产品的公司。 ASML和英特尔数十年来一直紧密合作，推动光刻技术的发展，并支持半导体的持续扩展。... （来源：新闻频道）

英特尔High NA EUV 2026-7-15 17:00

英特尔新光罩厂动工，聚焦EUV与High NA EUV技术

英特尔新光罩厂动工，聚焦EUV与High NA EUV技术

当地时间2026年6月30日，英特尔在位于美国加利福尼亚州圣克拉拉市的Bowers园区，为其新的光罩（掩模/Reticle）生产设施举办了动工仪式。英特尔首席执行官陈立武（Lip-Bu Tan） 以及代工业务负责人、掩模业务总经理等核心高管，圣克拉拉市长丽莎·吉尔莫出席了该动工仪式。 据介绍，该项目占地... （来源：新闻频道）

英特尔EUVHigh NA EUV 2026-7-3 10:33

魏哲家：台积电已经购买High NA EUV光刻机！

魏哲家：台积电已经购买High NA EUV光刻机！

6月4日，晶圆代工龙头大厂台积电召开2026年度股东常会，由台积电董事长魏哲家亲自主持，向现场及在线与会的股东发表重要营运报告与未来展望。同时还首次透露，台积电已经购入ASML最新的High NA EUV光刻机。 魏哲家表示，在过去的一年中，台积电不仅在财务表现上缴出亮眼成绩单，营收与每股收益双双创... （来源：新闻频道）

魏哲家台积电High NA EUV光刻机 2026-6-4 11:25

imec 构建全球首个 High NA EUV 光刻量子点量子比特器件

imec 构建全球首个 High NA EUV 光刻量子点量子比特器件

比利时校际微电子研究中心 imec 当地时间宣布，在本周举行的 ITF World 国际半导体技术展览会上，其发布了全球首个采用 High NA EUV 光刻技术制造的量子点量子比特器件，这也应该是首个 High NA EUV 工艺集成硬件器件。 ▲ 图源：imec imec 表示，与硅基标准计算机芯片生产工艺基本兼容的硅量... （来源：新闻频道）

imec High NA EUV 2026-5-20 10:11

台积电最新路线图曝光：N2U/A13/A12齐发，无需High－NA EUV！

台积电最新路线图曝光：N2U/A13/A12齐发，无需High－NA EUV！

当地时间4月22日，台积电在美国加州圣塔克拉拉市召开的“2026年北美技术研讨会”上正式披露了至2029年的制造技术路线图，宣布了A12和A13两大全新工艺节点、N2平台的的延伸N2U，以及A16量产时间延后。值得注意的是，台积电明确表示，至少到2029年，所有规划中的节点均无需使用High-NA EUV光刻... （来源：新闻频道）

台积电High-NA EUV 2026-4-23 11:22

SK海力士宣布斥资80亿美元采购ASML EUV光刻机

SK海力士宣布斥资80亿美元采购ASML EUV光刻机

SK海力士公司宣布，将向荷兰ASML公司购入价值12万亿韩元（约合80亿美元）的先进芯片制造设备，以满足日益增长的存储芯片需求。 SK海力士通过监管文件宣布了这一决定，并指出这批设备——极紫外（EUV）光刻机——将于2027年12月前交付，用于其下一代生产工艺。 此举正值SK海力... （来源：新闻频道）

SK海力士ASML EUV光刻机 2026-3-25 09:01

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