全球顶尖芯片设备制造商阿斯麦（ASML）首席执行官克里斯托夫 · 富凯于当地时间周二表示，公司预计数月内就能看到首批采用新款高数值孔径（High-NA）光刻机生产的产品。 富凯在比利时微电子研究中心（imec）主办的一场会议上称，这款设备能够降低顶尖芯片的电路光刻成型成本，可同时应用于... （来源：新闻频道）
阿斯麦 High-NA 光刻机 2026-5-20 10:02
当地时间4月22日，台积电在美国加州圣塔克拉拉市召开的“2026年北美技术研讨会”上正式披露了至2029年的制造技术路线图，宣布了A12和A13两大全新工艺节点、N2平台的的延伸N2U，以及A16量产时间延后。值得注意的是，台积电明确表示，至少到2029年，所有规划中的节点均无需使用High-NA EUV光刻... （来源：新闻频道）
台积电High-NA EUV 2026-4-23 11:22
全球光刻机龙头ASML（阿斯麦）今日公布了截至2022年6月30日的第二季度财务数据。 财报显示，ASML二季度销售收入为54.3亿欧元（约合人民币375.46亿元），高于之前给出的51亿至53亿欧元的财测目标，相比2021 年同期的40亿欧元增长约35.75%；净利润为14.1亿欧元（约合人民币97.55亿元），相比去年同期的... （来源：新闻频道）
ASML 2022-7-21 10:09
据路透社报道，ASML 正在研发一款半导体新光刻机，价值 4 亿美元，大约有双层巴士大小，而且重量超过 200 吨，将用于生产下一代芯片，芯片终端领域可覆盖手机、笔电、汽车、AI 等。 据称，ASML 计划在 2026-2030 年，将这款设备打造成为公司旗舰产品，最早 2025 年有望将生产模型投入使用，但目前对 A... （来源：新闻频道）
ASML 光刻机 2022-5-20 16:26
近日，比利时微电子研究中心（imec）于国际光学工程学会（SPIE）举行的先进光刻成形技术会议上，展示其High-NA（高数值孔径）光刻技术的重大进展，包含显影与蚀刻制程开发、新兴光刻胶与涂底材料测试、以及量测与光罩技术优化。imec与台积电、英特尔等国际大厂有密切合作，业界预期先进制程在2025年之后... （来源：新闻频道）
imecHigh－NA EUV 2022-4-27 09:38
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