开始供应用于下一代半导体的高NA EUV光掩模样品Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) 成功实现超2nm（nm：10-9米）一代1逻辑半导体光掩模所需的精细图案分辨率，支持半导体制造领域的尖端工艺——极紫外光（EUV）光刻技术。 用于超2nm一代EUV光刻的光掩模图像（照片：美国商业资讯） DN... （来源：新闻频道）
DNP EUV光刻 2024-12-13 09:55
与第八代玻璃基板兼容Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912)宣布，为了满足对大型有机发光二极管(OLED)显示器日益增长的需求，本公司位于福冈县北九州市的黑崎工厂于2024年5月开始运营一条新的金属掩膜生产线，用于生产OLED显示器。 金属掩膜图像（左侧为G8，中间和右侧为G6）（照片：美国... （来源：新闻频道）
DNP OLED 2024-6-13 08:55
Dai Nippon Printing Co., Ltd.（简称DNP，东京证券交易所：7912）开始研发面向2纳米逻辑半导体的光刻掩模版制造工艺，支持极紫外(EUV)光刻这一前沿的半导体制造技术。 EUV光刻及光刻保护膜Pellicle的图片（照片：美国商业资讯） DNP还将作为分包商向东京Rapidus Corporation (Rapidus)提供这种新开发... （来源：新闻频道）
DNP2纳米EUV光刻 2024-3-29 09:05
响应电路线宽日益精细化的半导体市场需求Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912)成功开发出一种光掩膜制造工艺，能够适应3纳米（10-9米）光刻工艺，以支持半导体制造的尖端工艺——极紫外(EUV)光刻。 能够支持3纳米EUV光刻的光掩膜（照片：美国商业资讯） [背景]DNP不断满足半导体制造商... （来源：新品频道）
DNP 3纳米EUV光刻 光掩膜 2023-12-13 09:32
努力减少零件数量和组件厚度，有助于减少二氧化碳排放量Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912)全新设计了用于液晶显示器(LCD)模块背光（例如在笔记本电脑中使用的LCD模块背光）的系统组件。 集成全新设计之系统组件的笔记本电脑（上图）与目前市面上的笔记本电脑（下图）的亮度和视角比较... （来源：新闻频道）
DNP LCD背光系统组件 2023-5-23 10:12
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