DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺

Dai Nippon Printing Co., Ltd.（简称DNP，东京证券交易所：7912）开始研发面向2纳米逻辑半导体的光刻掩模版制造工艺，支持极紫外(EUV)光刻这一前沿的半导体制造技术。 EUV光刻及光刻保护膜Pellicle的图片（照片：美国商业资讯） DNP还将作为分包商向东京Rapidus Corporation (Rapidus)提供这种新开发... （来源：新闻频道）

DNP2纳米EUV光刻 2024-3-29 09:05