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魏哲家：台积电已经购买High NA EUV光刻机！

魏哲家：台积电已经购买High NA EUV光刻机！

6月4日，晶圆代工龙头大厂台积电召开2026年度股东常会，由台积电董事长魏哲家亲自主持，向现场及在线与会的股东发表重要营运报告与未来展望。同时还首次透露，台积电已经购入ASML最新的High NA EUV光刻机。 魏哲家表示，在过去的一年中，台积电不仅在财务表现上缴出亮眼成绩单，营收与每股收益双双创... （来源：新闻频道）

魏哲家台积电High NA EUV光刻机 2026-6-4 11:25

SK海力士宣布斥资80亿美元采购ASML EUV光刻机

SK海力士宣布斥资80亿美元采购ASML EUV光刻机

SK海力士公司宣布，将向荷兰ASML公司购入价值12万亿韩元（约合80亿美元）的先进芯片制造设备，以满足日益增长的存储芯片需求。 SK海力士通过监管文件宣布了这一决定，并指出这批设备——极紫外（EUV）光刻机——将于2027年12月前交付，用于其下一代生产工艺。 此举正值SK海力... （来源：新闻频道）

SK海力士ASML EUV光刻机 2026-3-25 09:01

投资25亿欧元！imec启用2nm以下芯片中试线，3月接收High NA EUV光刻机

投资25亿欧元！imec启用2nm以下芯片中试线，3月接收High NA EUV光刻机

比利时研究机构imec宣布启用“NanoIC”试验生产线，旨在根据欧盟《芯片法案》开发超先进半导体，此举标志着欧洲在增强其在全球芯片竞赛中的地位迈出了重要一步。 欧洲拥有众多芯片制造设备巨头，但其生产和设计的最先进芯片份额却很小，因此在AI驱动的芯片热潮中，欧洲基本上处于边缘地位... （来源：新闻频道）

imec2nmHigh NA EUV光刻机 2026-2-11 09:23

imec展示了使用EUV光刻技术首次制造晶圆级固态纳米孔

imec展示了使用EUV光刻技术首次制造晶圆级固态纳米孔

近日，比利时微电子研究中心（imec）在2025年度IEEE国际电子器件会议（IEDM 2025）上宣布，首次利用ASML最先进的极紫外光（EUV）设备，成功实现了固态纳米孔的晶圆级制造。由于固态纳米孔正在成为分子传感的强大工具，但尚未商业化。这种概念验证是实现其成本效益（大规模）生产的关键一步。 据介绍... （来源：新闻频道）

imecEUV 2025-12-22 16:40

第二代High－NA EUV光刻机加持，传Intel 14A拿下英伟达和AMD订单

第二代High－NA EUV光刻机加持，传Intel 14A拿下英伟达和AMD订单

据Wccftech报道，英特尔目前已准备好将其最为先进的Intel 14A工艺节点向广泛外部客户开放。广发证券香港的分析显示，英伟达（NVIDIA）和AMD计划将该工艺应用到自己的下一代服务器CPU产品当中。而在此之前还有传闻称，英特尔赢得了代工苹果公司AI服务器芯片的订单。 为了发展晶圆代工业务，赢得更多的... （来源：新闻频道）

High NA EUV光刻机Intel 2025-12-19 14:22

英特尔安装首套第二代High－NA EUV光刻机，将用于Intel 14A量产

英特尔宣布该其尖端制程晶圆厂已安装了ASML的第二代High-NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200B，这也是目前全球最先进的光刻设备，将用于Intel 14A 节点制程的量产上。 早在2023年底，ASML 向英特尔交货了首套High-NA EUV 光刻机，型号为TWINSCAN EXE:5000。英特尔将其做为试验机，并于2024年初在美国俄勒... （来源：新闻频道）

英特尔光刻机 2025-12-17 14:36

台积电自研EUV光罩保护膜，推迟导入High－NA EUV光刻机

台积电自研EUV光罩保护膜，推迟导入High－NA EUV光刻机

光罩大厂Tekscend Photomask（科盛德光罩）近日于日本东京证交所挂牌上市，募资规模达1,566亿元日元。而随着Tekscend Photomask的上市，象征着半导体产业前进至埃米制程，扮演最前端制程的光罩重要性大大增加。 供应链指出，光罩好比芯片制作的底片，光罩受污染会导致无法提升最终良率。因此，台积电... （来源：新闻频道）

EUV台积电光刻机 2025-10-24 09:11

三星加购两台High NA EUV光刻机，增强2nm代工工艺

三星加购两台High NA EUV光刻机，增强2nm代工工艺

据报道，三星电子正在加大对极紫外（EUV）光刻设备的投资，计划为其存储部门新增五套设备，同时为其晶圆代工部门新增两套高数值孔径（High NA）EUV设备。随着DRAM和高带宽存储器（HBM）制造商竞相扩大下一代产能，此举将使三星在预期的存储超级周期中占据优势。 据报道，三星计划为其存储业务部署五... （来源：新闻频道）

三星High NA EUV光刻机2nm 2025-10-20 15:03

瞄准Intel 14A工艺，消息称英特尔加购两台High NA EUV光刻机

瞄准Intel 14A工艺，消息称英特尔加购两台High NA EUV光刻机

据报道，英特尔已加大对荷兰芯片设备制造商ASML High NA（高数值孔径）EUV光刻机的购买力度，意图为其Intel 14A（1.4nm）工艺“倾尽全力”。 High NA EUV光刻机被称为芯片市场上的“圣杯”，这不仅是因为其高昂的价格，还因为其光刻质量。Jerry Capital的一篇分析文章披露，英特... （来源：新闻频道）

Intel 14A英特尔光刻机 2025-9-30 09:37

imec宣布取得两项High NA EUV光刻突破性成就

imec宣布取得两项High NA EUV光刻突破性成就

近日，在美国加利福尼亚州蒙特雷举办的 “2025 SPIE 光掩模技术 + EUV 光刻会议上”，比利时微电子研究中心（imec） 展示了单次打印High NA EUV 光刻的两项突破性成就： （1）间距为 20nm 的线结构，尖端到尖端临界尺寸 (CD) 为 13nm，适用于镶嵌金属化； （2）使用直接金属蚀刻 (... （来源：新闻频道）

imecEUV光刻机 2025-9-30 09:07

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