响应电路线宽日益精细化的半导体市场需求Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912)成功开发出一种光掩膜制造工艺，能够适应3纳米（10-9米）光刻工艺，以支持半导体制造的尖端工艺——极紫外(EUV)光刻。 能够支持3纳米EUV光刻的光掩膜（照片：美国商业资讯） [背景]DNP不断满足半导体制造商... （来源：新品频道）
DNP 3纳米EUV光刻 光掩膜 2023-12-13 09:32
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