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中芯国际推出0.13微米1.2V低功耗嵌入式EEPROM平台

中芯国际推出0.13微米1.2V低功耗嵌入式EEPROM平台

上海2012年9月19日电 /美通社/ -- 中芯国际集成电路制造有限公司("中芯国际",纽约证交所股票代码:SMI,香港联交所代码:981),中国最大的和最先进的半导体代工厂,今天宣布推出其1.2伏(V)低功耗嵌入式EEPROM的平台,与其0.13微米(um)低漏电(LL)工艺完全兼容。该平台经过流片以及IP验证,在降低功耗、芯片尺寸和成本的同时,能提高数据的安全性。这个新平台为中芯国际的成熟工艺节点提供了最新的增值服务,主打中国快速发展的双界面金融IC卡市场及全球非接触式智能卡市场。

建立在中芯国际的0.13微米低功耗技术上,该1.2V低功耗平台使用字节模式操作的真正的EEPROM技术。与0.18微米EEPROM技术相比,该0.13微米平台减少了约50%的芯片面积,同时降低了约50%的功耗。还可选用高速缓存控制器,在低功耗的同时加快读取速度,为客户提供了更大的设计灵活性。该平台是卡类应用最理想的平台,如双界面银行卡、社会保障卡、医疗保险卡、交通卡、电子护照和电子支付卡。该平台集成了EEPROM、ROM、VR、OSC、I/O、存储器编译器和光检测器(light detector)IP。除了上述中芯国际自己研发的IP,存储器编译器方面亦提供第三方IP的选择。中芯国际的0.13微米过程中使用铜低k互连和硅化钴晶体管的互连。以中芯国际0.13微米LL技术构建的设备将支持温度范围从-40摄氏度到85摄氏度完整的读取和编程操作,并且在55摄氏度的温度下,10万读取和写入周期后,还能保证至少30年的数据保存(等同于在室温下超过300年的数据保存)。该平台目前正在通过一百万次读取和写入周期的品质验证。

中芯国际商务长季克非表示,"年底将有银行IC卡产品在这一新平台投片,我们为客户的积极反响感到鼓舞。根据我们多年0.18微米EEPROM的量产经验以及客户的反馈,我们预期该技术将快速上量并带来强劲的市场需求。"

关于中芯国际
中芯国际积体电路制造有限公司("中芯国际",纽约证交所股票代码:SMI,香港联合交易所股票代码:981),是世界领先的积体电路晶圆代工企业之一, 也是中国内地规模最大、技术最先进的积体电路晶圆代工企业。中芯国际向全球客户提供0.35微米到40纳米晶圆代工与技术服务。中芯国际总部位于上海,在 上海建有一座 300mm 晶圆厂和三座 200mm 晶圆厂。在北京建有两座 300mm 晶圆厂,在天津建有一座 200mm 晶圆厂,在深圳有一座 200mm 晶圆厂在兴建中。中芯国际还在美国、欧洲、日本和台湾地区提供客户服务和设立行销办事处,同时在香港设立了代表处。此外,中芯国际在武汉新芯积体电路制造 有限公司经营管理一座 300mm 晶圆厂。

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